作 者： 郑传涛 编著
出 版 社： 化学工业出版社
出版时间： 2004-1-1
字 数： 382000
版 次： 1
页 数： 313
印刷时间： 2004/01/01
开 本：
印 次：
纸 张： 胶版纸
I S B N ： 9787502549381
包 装： 平装
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内容简介 本书系统阐述了薄膜材料与薄膜技术的基本理论和基本知识，重点介绍了薄膜材料的真空制备技术、薄膜的化学和物理沉积方法、薄膜的形成和生长原理、薄膜的表征、对目前广泛研究和应用的几种主要薄膜材料进行了介绍、评论和展望。
本书适合于从事材料研究的科研技术人员、相关专业的大专院校师生阅读和参考，同时也可作为研究生教材使用。
作者简介
目录 第一章 真空技术基础
第一节 真空的基本知识
第二节 真空的获得
第三节 真空的测量
第二章 薄膜制备的化学方法
第一节 热生长
第二节 化学气相沉积
第三节 电镀
第四节 化学镀
第五节 阳极反应沉积法
第六节 LB技术
第三章 薄膜制备的物理方法
第一节 真空蒸发
第二节 溅射
第三节 离子束和离子助
第四节 处延膜沉积技术
第四章 薄膜的形成与生长
第一节 形核
第二节 生长过程
第三节 薄膜的生长模式
第四节 远离平衡态薄膜生长的研究
第五章 薄膜表征
第一节 薄膜厚度控制及测量
第二节 组分表征
第三节 薄膜的结构表征
第四节 原子化学键合表征
第五节 薄膜应力表征
第六章 薄膜材料
第一节 超硬薄膜材料
第二节 智能薄膜材料
第三节 纳米薄膜材料
第四节 三族元素氮化物（Ⅲ-N）薄膜材料
第五节 磁性氮化铁薄膜材料
第六节 巨磁阻锰氧化物薄膜材料
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